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轻金属微弧氧化电源厂家电话

发布时间:2020-09-18 03:40:36        







微弧氧化电解液组成及工艺条件

  微弧氧化电解液组成:K2SiO3 5~10g/L,Na2O2 4~6g/L,NaF 0.5~1g/L,CH3COONa 2~3g/L,Na3VO3 1~3g/L;也可通过改变或调节电解液的成分使膜层具有某种特性或呈现不同颜色。溶液pH为11~13;温度为20~50℃;阴极材料为不锈钢板;电解方式为先将电压迅速上升至300V,并保持5~10s,然后将阳极氧化电压上升至450V,电解5~10min。

两步电解法,靠前步:将铝基工件在200g/L的钾水玻璃水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化5min;微弧氧化通过电源参数的灵活运用,微弧氧化电解液的特殊匹配,在钛合金零件表面原位制备微弧氧化陶瓷膜的强化处理,达到防腐、提高发射率、耐磨、高绝缘等性能要求。第二步:将经靠前步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化15min。阴极材料为:不锈钢板;溶液温度为20~度为20~50℃微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线


微弧氧化现象及特点

在阳极氧化过程中,当铝合金上施加的电压超过一定范围时,铝合金表面的氧化膜就会被击穿。随着电压的继续不断升高,氧化膜的表面会出现辉光放电,微弧和火花放电灯现象。为什么要进行微弧氧化预处理微弧氧化预处理预处理的原因是由于铝、铁等合金长时间放置在空气中,表面易发生氧化,生成一层几个微米的钝化膜,同时,其表面又极易吸附周围环境中的杂质,形成表面吸附层。其中只有微弧区的温度适中,既可使氧化膜的结构发生变化,又不造成铝合金材料表面的受损,微弧氧化就是利用这个温度区对材料表面进行改性处理的。微弧氧化技术特点、微弧氧化工艺、微弧氧化电源、微弧氧化生产线



微弧氧化

在微弧氧化过程中,化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂,至今还没有一个合理的模型能全描述陶瓷层的形成。微弧氧化工艺将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域,克服了硬质阳极氧化的缺陷,极大地提高了膜层的综合性能。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化设备、微弧氧化技术原理、微弧氧化工艺。微弧氧化膜层与基体结合牢固,结构致密,韧性高,具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。



微弧氧化技术

为提高铝材料的表面性能,常用的方法有电镀,激光,阳极氧化等,其中微弧氧化技术是基于阳极氧化发展起来的一种***的表面强化处理技术。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高电压进行氧化。溶液冷却和搅拌系统在微弧氧化过程中,会在工件表面产生瞬时高温高压,为了及时能带走产生的热量及平衡稳定氧化槽的温度,必须配备外循环和热交换方式,溶液的循环同时达到搅拌和冷却槽液的目的。随着电压的递增,逐步进入火花放电阶段,并通过瞬时高温烧结作用使氧化膜结构发生变化,生成陶瓷膜层。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化工艺


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