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温度对微弧氧化的影响

微弧氧化与阳极氧化不同，所需温度范围较宽。一般为10—90度。温度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且温度高，会形成水气。微弧氧化处理后的铝基表面陶瓷膜层具有硬度高，耐蚀性强，绝缘性好，膜层与基底金属结合力强，并具有很好的耐磨和耐热冲击等性能。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放，所以液体温度上升较快，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。所以微弧氧化过程中一定要控制好温度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源

微弧氧化技术的特点是什么

微弧氧化技术是新型的环保的技术，下面咱们一起了解一下微弧氧化技术的优点。

1、微弧氧化有良好的绝缘性能，绝缘电阻可达100mω。

2、微弧氧化电解溶液为环保型，符合环保排放要求。

3、微弧氧化工艺稳定可靠,设备工艺简单，.

4、微弧氧化反应在常温下进行，操作方便，易于掌握。

5、微弧氧化的基体原位生长陶瓷膜，结合牢固,陶瓷膜致密均匀。此工艺可代替并优于阳极氧化工艺。

微弧氧化技术的内容和工艺流程

　　微弧氧化技术主要针对对象是铝、镁、钛等轻金属以及他们的合金。下面我们一起了解一下铝合金的微弧氧化技术与工艺流程。铝及铝合金材料的微弧氧化技术内容主要包括铝基材料的前处理；微弧氧化；后处理三部分。铝合金微弧氧化工艺流程如下：铝基工件→化学除油→清洗→微弧氧化→清洗→后处理→成品检验。在开通电源后，正脉冲电压快速升高，电流迅速下降，作为阳极的待氧化试样开始进行阳极氧化,产生大量微小气泡，同时在试样表面形成了一层极薄的钝化膜。当然微弧氧化的效果，在氧化过程中受多方面因素的影响，折扣要求需要***二熟练的操作。镁合金微弧氧化、钛合金微弧氧化、微弧氧化技术

微弧氧化技术

在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在，因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能描述陶瓷层的形成。

微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。也可通过改变或调节电解液的成分使膜层具有某种特性或呈现不同颜色。微弧氧化技术具有操作简单和易于实现膜层功能调节的特点，而且工艺不复杂，不造成环境污染，是一项全新的绿色环保型材料表面处理技术，在航空航天、机械、电子、装饰等领域具有广阔的应用前景。