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微弧氧化

微弧氧化又称等离子体电解氧化、微等离子体氧化等，是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。当外加脉冲电压超过一定值时，材料表面出现一层极细微均匀的放电火花，这种微区火花放电现象在试样表面不同位置出现，在待微弧氧化表面原位生长陶瓷膜层，以达到强化材料表面的目的。在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能完全描述陶瓷层的形成。

影响微弧氧化的因素

（1）微弧氧化对铝材要求不高，不管是含铜或是含硅的难以阳极氧化铝合金，只要阀金属比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜层。

（2）表面状态一般不需要经过抛光处理，对于粗糙的表面，经过微弧氧化，可修复的平整光滑；对于粗糙度低（即光滑）的表面，则会增加粗糙度。

工件材质及表面状态对微弧氧化会有一定的影响，所以一定要引起注意。微弧氧化生产线、微弧氧化电源、微弧氧化技术

微弧氧化使用范围

由于微弧氧化技术具有工艺过程简单，占地面积小，处理能力强，生产，适用于大工业生产等优点，因此在机械，汽车，，电子，航天航空及建筑民用等工业领域有着极其广泛的应用前景。主要可用于对耐磨、耐蚀、耐热冲击、高绝缘等性能有特殊要求的铝基零部件的表面强化处理；同时也可用于建筑和民用工业中对装饰性和耐磨耐蚀要求高的铝基材的表面处理。微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化厂家、微弧氧化工艺。微弧氧化生产线、微弧氧化电源、微弧氧化技术

微弧氧化产生的高温高压特性可使铝合金表面氧化膜发生相转变和结构转变。在微弧氧化的过程下，原来生产的氧化膜不会脱落，只有表面一部分氧化膜可能会被粉化而沉淀在溶液中，脱落的表面可以继续氧化，随着外加电压的升高，或时间的延长，微弧氧化膜厚度会不断增加，直至达到外加电压所对应的厚度。氧化膜的硬度一般能达到600-1500HV(膜层厚度20-50μm），耐磨性能优于硬质阳极化膜及电镀硬铬。经测试，微弧氧化膜的厚度可达到200-300μm。微弧氧化技术优势、微弧氧化设备、微弧氧化电源